建議使用壓力:2.0 kgf/cm²
流量公差:± 5% @ 2.0 ± 0.1 kgf/cm²
角度公差:± 5° @ 2.0 ± 0.1 kgf/cm²* 噴灑型式為實心圓錐,噴霧形狀為圓形。
* 多孔式中心葉片(multi-slotted core)設計,紊流控制能力更優越,使流量分佈與噴霧顆粒都更均勻一致,因噴灑均勻度高,常應用於半導體及 印刷電路板的化學品散佈製程,如:蝕刻製程。
* PVDF材質有極佳的耐藥品特性,且材質硬度高能有較長的使用年限。
產品應用:
* 清洗:氣體、廢氣、粉塵、洗淨裝置、桶槽清洗等。
* 冷卻:氣體、桶槽、機械裝置、金屬等。